（1）磁尺位置檢測裝置，磁尺位置檢測裝置是由磁性標尺，磁頭和檢測電路組成，該裝置方框圖見圖7-24。利用錄磁原理將一定周期變化的方波、正弦波或脈沖電信號，用錄磁磁頭記錄在磁性標尺（或磁盤）的磁膜上，作為測量的基準。檢測時，用拾磁磁頭將磁性標尺上的磁信號轉化為電信號，經過檢測電路處理后用以計量磁頭相對磁尺之間的位移量。磁尺按其結構可氛圍直線、磁尺和圓形磁尺，分別用語直線位移和角度位移的測量，磁性標尺制作簡單、安裝調整方便，對使用環(huán)境要求較低，如對周圍電磁場的抗干擾能力較強，在油污、粉塵較多的場合下使用，有較好的穩(wěn)定性。高精度的磁尺位置檢測裝置可用于各種測量機、精密機床和數控機床。
磁尺制造工藝比較簡單，錄磁、去磁都較方便。若采用激光錄磁，可得到更高的精度。直接在機床上錄制磁尺、不需安裝、調整工件、避免了安裝誤差。目前數控機床的快速移動速度已達24m/min。磁尺作為測量元件難以跟上這樣高的反應速度，使其應用受到限制。
（2）光柵位置檢測裝置，光柵測量裝飾是種非接觸式測量。利用光路減少了機械誤差，具有精度高，響應速度快等特點，是數控機床和數顯系統(tǒng)常用的檢測元件。作為數控機床檢測裝置，用以測量長度、角度、速度、加速度、振動和爬行等。
光柵就是在一塊長條形的光學玻璃上均勻地刻劃很多條和運動方向垂直的條紋。條紋之間的距離稱為柵距。柵距可以根據所需的精度來決定。長光柵稱為指示光柵，固定在機床的移動部件上，短光柵稱為指示光柵。裝在機床的固定部件上，兩塊光柵互相平行，他們之間保持0.05mm或0.1mm的間隙。根據制造方法和光學原理的不同，光柵可分為透射光柵和反射光柵。透射光柵采用經磨制的光學玻璃或表面感光材料的涂層上刻成光柵線紋，這種光柵的特點是：光源可以采用垂直入射光，光電元件直接接受光照，因此，信號幅值比較大，信噪比好，光電轉換器（光柵讀數頭）的結構簡單，同時光柵每毫米的線紋數多。如刻線密度為200線/mm時，光柵本身就已經細分到0.005mm，從而減輕了電子線路的負擔，其缺點是：玻璃易破裂，熱脹系數與機床金屬部件不一致，影響測量精度。反射光柵是用不銹鋼帶經照像腐蝕或直接刻線制成，其特點是：光柵和機床金屬部件的線膨脹系數一致。接長方便，也可用鋼帶做成長達數米的長光柵。標尺光柵安裝在機床上，所需的面積小。調整也很方便。適應于大位移測量的場所。其缺點是：為了使反射后的莫爾條紋反差較大，每毫米內線紋不宜過多，常用線紋數為4、10、25、40、50在檢測過程中，標尺光柵與指示光柵不直接接觸，滅有磨損。精度可以長期保持。但光學系統(tǒng)易受外界因素的影響產生誤差，對工作環(huán)境的要求較高。
